面内分布 pvd
半導体製造装置用語集 ウェーハプロセスWafer Process 1洗浄乾燥装置. Physical Vapor Deposition法と対比して用いられる 物理気相蒸着 仮焼 かしょう 粉末原料粉末の予備的な熱処理一般には本焼前に行われる予備的な熱処理のことを指す焼結体の作製における焼結前熱処理やTFA-MOD法における超電導相形成熱処理本焼.
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